11月18日消息,繼此前彭博社爆出英特爾成都廠擴產計劃因美國政府反對而取消之后,韓國存儲大廠SK海力士位于中國無錫的存儲廠升級計劃也遭到了美國政府的阻撓。

 

SK海力士無錫廠導入EUV光刻機受阻

 

據路透社今天報道,知情人士稱,SK海力士正計劃對其位于中國無錫的存儲晶圓廠進行升級,以提升DRAM芯片生產效率。然而,美國政府阻止先進的極紫外光 (EUV) 光刻機對中國大陸的出口,恐將使得SK海力士無錫廠的升級計劃落空,SK 海力士成為美中地緣政治斗爭下的又一個受害者。
 

 

據三位知情人士透露,SK海力士無錫廠的升級計劃,希望提升DRAM芯片的制造工藝,以提升生產效率,需要用到荷蘭ASML公司制造的EUV光刻機。而一直以來,美國都在阻止EUV光刻機對中國大陸的出口,理由是向中國大陸運送此類先進設備將可能被用于加強其軍事力量。

 

 

 

路透社報道稱,一位白宮高級官員拒絕就美國政府是否允許SK海力士將EUV光刻機帶到中國大陸的問題發表具體評論。但這位官員告訴路透社,拜登政府仍然專注于阻止中國利用美國和盟國的技術開發最先進的半導體制造技術,以幫助中國實現軍事現代化。

 

DRAM廠商紛紛導入EUV工藝,SK海力士無錫廠或將落后

 

作為全球第二大DRAM廠商,SK海力士占據了全球約29%的DRAM市場。而SK海力士無錫廠則占據了其DRAM總產能的一半,占全球DRAM總產能的近15%。

 

這也意味著,如果SK海力士無錫廠無法獲得先進的EUV光刻機,將使得該工廠的制程工藝的升級遭遇障礙,生產效率難以繼續提升,這無疑將對全球DRAM市場產生負面影響。根據IDC的數據顯示,僅2021年,全球DRAM芯片的需求就增長了19%。

 

一位了解SK海力士中國業務的消息人士表示,隨著新的依賴于EUV光刻機的先進制程工藝在未來兩到三年內在DRAM芯片制造當中占比的提升,SK海力士需要EUV光刻機來幫助其提升無錫廠生產效率和控制成本。

 

如果未來幾年這種情況得不到解決,SK海力士可能在與排名第一的DRAM芯片制造商三星電子,以及與排名第三的美光的競爭當中處于劣勢。目前三星和美光都在積極的在其DRAM芯片的生產當中導入EUV光刻機。SK海力士韓國的DRAM工廠也在積極導入EUV光刻機。

 

早在2020年4月,三星就成功生產了100萬個采用了EUV技術的10納米級1x)制程DRAM。之所以將EUV技術應用于1x制程的DRAM,是出于測試的目的。今年10月,三星宣布已開始量產采用EUV工藝的DDR5內存,應用的是5層EUV方案,具有更高的密度,更低的成本、更低的功耗以及性能表現。

 

根據此前的資料顯示,三星在2020年下半年完成了平澤工廠的EUV專用產線(被稱為“P-EUV”),1a DRAM產品正是在平澤的P-EUV產線生產。

 

雖然美光并沒有計劃在1a DRAM產品上使用EUV技術,但是已明確會在會1-δ (10納米級第7代)產品開始導入EUV制程。

 

 

此前,SK海力士在韓國的利川新廠M16也已經引進了2臺EUV光刻機,并且計劃從2021年下半年開始生產第四代10納米級(1a)DRAM存儲器。

 

SK海力士內部對于無錫廠可能無法獲得EUV光刻機的問題,一直都有著擔憂,只不過沒有公開對外透露過。

 

據兩位知情人士透露,此事在SK海力士內部已經引起了足夠的重視,以至于SK海力士首席執行官李錫熙在今7月訪問美國華盛頓特區期間就向美國官員提出了這個問題。

 

SK海力士拒絕就此事發表評論,只表示,它將根據各種市場環境靈活運作,并正在盡最大努力應對市場和客戶的需求。

 

為遏制大陸半導體發展,美國卡住EUV光刻機

 

目前中國大陸在芯片設計領域已經處于全球領先地位,華為海思可以說是芯片設計領域的領軍企業,近年來數代麒麟處理器都足以與同時期的高通驍龍旗艦處理器相抗衡。不過,在芯片制造領域,特別是在半導體設備方面,中國大陸仍處于落后的位置。

 

雖然近年來國家大力支持半導體制造及設備產業的發展,但是美國為了進一步壓制大陸半導體產業的發展,通過出口管制以及行政令等手段,持續限制中芯國際、華為等半導體企業獲取可以被用于先進制程芯片制造的半導體設備或制造服務。

 

特別對于7nm以下更先進的半導體制程所必須的關鍵設備——荷蘭ASML的EUV光刻機,美國更是不遺余力的進行封堵。

 

早在2018年5月,中芯國際就證實已向荷蘭ASML訂購了一臺最新型的EUV光刻機,價值高達1.5億美元,原計劃在2019年初交付。當時荷蘭政府也已向ASML頒發了出口許可證(該出口許可證于2019年6月30日到期),允許其向中國客戶出售其最先進的設備。

 

雖然根據美國出口管制的規定,如果其他國家出口到中國的高科技產品中來源于美國的技術占比達到25%以上,美國政府有權阻止這項交易。但是,美國商務部對ASML的EUV光刻機進行了審計,但發現它沒有達到25%的門檻。

 

由于無法利用現有的法規直接阻止EUV光刻機對中國大陸的出口,因此,特朗普政府迫使荷蘭考慮安全問題。并且在后續的幾個月里,美國官員為了阻止這筆交易,與荷蘭官員舉行了至少四輪會談。

 

2019年7月,美國的努力達到了頂峰,時任美國國家副安全顧問的查爾斯·庫珀曼(Charles Kupperman)在荷蘭總理馬克·呂特(Mark Rutte)訪問美國期間向荷蘭官員提出了這個問題。據報道,美國向荷蘭總理呂特提供了一份情報報告,內容涉及中國收購ASML技術的潛在影響。

 

隨后,美國施加的壓力似乎起作用了。在荷蘭總理訪問美國后不久,荷蘭政府決定不續簽ASML的出口許可證。這也導致了ASML一直無法向中芯國際交付EUV光刻機。

 

ASML發言人表示,該公司遵守所有出口管制法律,并將其視為政府確保國家安全的“有效工具”。但該公司也表示,過度使用這些控制“可能會影響保持領先于不斷增長的半導體需求所需的生產能力”。

 

“出口管制的廣泛使用,可能會加劇芯片供應鏈問題,將會加劇對汽車行業等其他行業的溢出效應,這已經是世界各國政府和政策制定者的主要關注點”,AMSL發言人在一份聲明中說到。

 

分析人士認為,美國官員對于SK海力士將EUV光刻機引入其中國工廠的努力的態度,與對于中國公司此前為了引入EUV光刻機所做的努力的態度沒有任何不同。

 

VLSIresearch 的首席執行官丹·哈奇森 (Dan Hutcheson) 表示:“他們真的被夾在了中國和美國的矛盾之間,”他補充說,這些規則可能適用于中國的任何芯片制造業務,無論是外國的還是由中國大陸資本控制的。“任何在中國安裝 EUV光刻機的企業都會為中國大陸提供制造能力。一旦它在那里,你不知道它之后會去哪里。他們總是可以利用它或做任何他們想做的事情。”這似乎也正是美國所擔憂的。


所以,從目前來看,美國恐怕不會對SK海力士無錫廠引入EUV光刻機的計劃“網開一面”。

 

那么這也不可避免的引申出另外一個問題,那就是,如果美國持續阻撓EUV光刻機對中國大陸的出口,不僅將鎖死中國大陸半導體制造業在先進制程方向上的發展,使得中國大陸半導體制造技術與海外差距持續擴大。同時可能還將迫使SK海力士等注重先進制造工藝的外資芯片制造企業,在后續先進產能的投資上將不再考慮中國大陸。美國這一招真可謂是用心險惡。

 

如果要破局,要么通過國家層與美國或荷蘭政府進行交涉解決,要么等待國產EUV光刻機的突破,要么找到能夠繞過EUV光刻機繼續推進先進制程的技術(比如鎧俠攜手NDP和佳能力推納米壓印技術),但不管哪種方式,無疑都將是極為艱難的。

 

 

編輯:芯智訊-浪客劍往期精彩文章